FD SOI的mVt基本功之一HKMG與鋁的故事IBM vs ...
...極(High-kMetalGate,HKMG)的後閘極(Gate-last)技術為主。相較於前閘極(Gate-first)技術,後閘極技術具備較低的漏電流以及能提供更佳的晶片效能等優勢。,2018年8月8日—而本專題討論highk/metalgate金氧半場效電晶體熱載子可靠度的研究,.分析在不同Ti濃度...。參考影片的文章的如下:
...極(High-kMetalGate,HKMG)的後閘極(Gate-last)技術為主。相較於前閘極(Gate-first)技術,後閘極技術具備較低的漏電流以及能提供更佳的晶片效能等優勢。,2018年8月8日—而本專題討論highk/metalgate金氧半場效電晶體熱載子可靠度的研究,.分析在不同Ti濃度...。參考影片的文章的如下:
...極(High-kMetalGate,HKMG)的後閘極(Gate-last)技術為主。相較於前閘極(Gate-first)技術,後閘極技術具備較低的漏電流以及能提供更佳的晶片效能等優勢。,2018年8月8日—而本專題討論highk/metalgate金氧半場效電晶體熱載子可靠度的研究,.分析在不同Ti濃度及不同厚度下,hotcarrierstress後,其Id、S.S、GIDL、.VT ...,Intelmadeasignificantbreakthroughinthe45nmprocessbyusingahigh-k(Hi-k)materialcalledhafniumto...
終於!終於!我要開始捷克蜜月的遊記啦~前陣子還真是忙翻了,該來把捷克遊記認真完成我們在布拉格就待了三天,照片真的是又多又亂,還真是不知道該如何分類我們去的時候還是夏天,現在過去已經是酷寒的冬天了,...